Alumina Ceramic Microporous Chuck | Semiconductor Wafer & Chip | Vacuum Chuck | Wear-Resistant Porous Ceramic
Produktübersicht
Technische Unterstützung und Dienstleistungen
- Technische Beratung und Lösungen bei der Materialauswahl
- Individuelle Bearbeitung nach Kundenwunsch mit einer Genauigkeit von bis zu ±0,01 mm
- Erstellung von Produktinspektionsberichten und Materialzertifizierungen
Detaillierte Produktspezifikationen
Product Description
Wesentliche Vorteile
- Uniform Microporous Structure
Uniform pore distribution ensures balanced vacuum adsorption, preventing wafer warpage or slippage during high-speed processing.
- Superior Wear & Corrosion Resistance
Resists mechanical abrasion and chemical corrosion from semiconductor process fluids, extending service life and reducing maintenance costs.
- High-Precision Dimensional Accuracy
Ultra-flat surface and tight tolerance control guarantee seamless compatibility with semiconductor wafers and chips of various specifications.
- Cleanroom Compatibility
Non-contaminating, non-outgassing material properties meet ISO Class 5 cleanroom standards, avoiding particle pollution in semiconductor manufacturing.
Typical Technical Parameters
| Parameter | Specification |
|---|---|
| Material | 99.5%+ High-Purity Alumina (Al₂O₃) |
| Pore Size | 0.5–5 μm (customizable) |
| Porosität | 20–40% (adjustable) |
| Surface Flatness | ≤0.005 mm |
| Härte | HRA 88–92; Mohs Hardness 9.0 |
| Max Service Temperature | 1200°C |
| Chemical Stability | Resistant to acids, alkalis, plasmas, and semiconductor process chemicals |
| Customizable Sizes | Diameter: 50–500 mm; Thickness: 10–50 mm |
Anwendungen
- Semiconductor wafer handling, dicing, lithography, and etching processes
- Silicon chip packaging and testing equipment
- Flat panel display (FPD) substrate processing
- Optical component manufacturing and precision positioning
Hochleistungskeramik
Die Familie der Hochleistungskeramik umfasst eine Vielzahl von Materialien mit unterschiedlichen Eigenschaften, die jeweils speziell für bestimmte Anwendungsszenarien entwickelt wurden.
Keramische Materialien
Tonerde-Keramik (Al₂O₃)
Aluminiumoxid ist das am häufigsten verwendete moderne keramische Material, das eine hervorragende elektrische Isolierung bietet, hohe Härte und gute Verschleißfestigkeit. Es kann bei Temperaturen von bis zu 1700°C eingesetzt werden und ist damit für ein breites Spektrum industrieller Anwendungen geeignet.
Hauptanwendungsbereiche
Weit verbreitet in verschiedenen High-End-Fertigungsbereichen, um maßgeschneiderte Lösungen für Kunden anzubieten
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Warum Dongguan XYC New Material Co, Ltd. Ist Ihre erste Wahl für Hochleistungskeramik
Das 2002 gegründete Unternehmen Dongguan XYC New Material Co. Ltd. ist auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von Hochleistungskeramik und Hartmetall spezialisiert. Wir haben Präzisionskomponenten (Aluminiumoxidkeramik（Al₂O₃）））、Zirkonoxidkeramik（ZrO₂）、Magnesium-Zirkoniumoxidkeramik (MgO-ZrO₂)、Siliziumnitridkeramik(Si₃N₄)、Siliziumkarbidkeramik（SiC）、Aluminiumnitridkeramik（AlN）) an mehr als 2000 Unternehmen weltweit, und beliefern Branchen wie Halbleiter, Automobil, Medizin und Energie. Hier sind unsere wichtigsten Vorteile:
Vielfältige Materialien und vollständige Produktpalette
Wir bieten eine breite Palette an fortschrittlichen keramischen Werkstoffen an, darunter Aluminiumoxid (Al₂O₃), Zirkoniumoxid (ZrO₂), Siliziumnitrid (Si₃N₄) und Siliziumkarbid (SiC). Wir können mehr als 10.000 Komponentenformen (Rohre, Stangen, Platten, Ventile, Kolben usw.) individuell anpassen, um die Anforderungen an die Materialleistung in verschiedenen Branchen zu erfüllen.
Hohe Präzision und Widerstandsfähigkeit gegen extreme Umweltbedingungen
Mit präzisen Form- und Sinterverfahren erreichen wir Bearbeitungsgenauigkeit auf Mikroebene ±0,001 mm. Unsere keramischen Komponenten zeichnen sich aus durch hohe Härte, hohe Temperaturbeständigkeit (1800°C), starke Korrosionsbeständigkeit und geringe ReibungDadurch eignen sie sich für extreme Arbeitsbedingungen wie die Halbleiterfertigung und das Schweißen in der Automobilindustrie.
Branchenübergreifende Lösungen und Anpassungen
Wir sind in Branchen wie der Halbleiter-, Automobil-, Medizin- und Energieindustrie tätig und bieten integrierte technische Lösungen von der Materialauswahl bis zur Lieferung des fertigen Produkts. Wir unterstützen das Rapid Prototyping für Kleinserien und die stabile Massenproduktion für Großaufträge und erfüllen so die individuellen Anforderungen von Kunden aller Größenordnungen.
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