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poröser Saugnapf Halbleiterausrüstung - Keramik-Vakuumspannvorrichtung
Halbleiterausrüstung - Keramik-Vakuumspannplatten Keramik-Vakuumspannplatten sind eine spezielle Art von Vakuumtellern aus porösem Keramikmaterial, die sich durch hohe Porosität, hohe Festigkeit und hervorragende Oberflächenebenheit auszeichnen. Sie werden häufig in Halbleiter-Wafer-Prozessen wie Schneiden, Schleifen, Polieren und Inspektion verwendet. Produkteigenschaften ▲ Die Oberflächenebenheit kann bis zu 0,002 mm betragen; die Parallelität [...]
Fallübersicht
Halbleiterausrüstung - Keramik-Vakuumspannplatte
Keramische Vakuumspannplatten sind eine spezielle Art von Vakuumtellern aus porösem Keramikmaterial, die sich durch hohe Porosität, hohe Festigkeit und hervorragende Oberflächenebenheit auszeichnen. Sie werden häufig in Halbleiter-Wafer-Prozessen wie Schneiden, Schleifen, Polieren und Inspektion verwendet.
Produktmerkmale
- Hohe Präzision
- Ausgezeichnete Luftdichtheit
- Gleichmäßige Saugkraft
- verschleißfest und korrosionsbeständig
▲ Die Ebenheit der Oberfläche kann 0,002 mm erreichen; die Parallelität kann 0,003 mm erreichen
表格
| Material | Porengröße (μm) | Porosität | Druckdifferenz (bar) | Widerstandsfähigkeit | Farbe |
|---|---|---|---|---|---|
| Aluminium-Oxid | 5-50 | 15-45% | 35 | 1×10¹¹ Ω-cm | Dunkelgrau / Erdgelb |
| Siliziumkarbid | 10-50 | 15-45% | 30 | 1×10⁸ Ω-cm | Schwarz |
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